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相關文章品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 國產 |
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應用領域 | 環(huán)保,化工,農業(yè),地礦,電子 | 有效提拉高度 | 128mm |
1.浸漬提拉涂敷機勻膠機 型號:DP-C128
產品簡介:
浸漬提拉涂敷法:(簡述)
把需要涂敷的基片浸入溶液中,通過預設置的速度,在定的溫度和空氣環(huán)境下將基片慢慢提拉起來,
在基片的表面形成薄膜。膜層厚度由提拉速度,固體含量和液體粘度決定。用溶膠凝膠的方式涂敷成膜,
空氣會使溶劑揮發(fā),而溶劑揮發(fā),又會步促使溶膠脫穩(wěn),使其入凝膠過程,由于溶劑膠中的微小粒子(納米級),
后會形成透明的薄膜。提拉涂敷法適用于基片大,異形幾何體,兩面及多面涂敷成膜的情況。
浸漬提拉涂敷機勻膠機 主要用于材料浸入液體,膠體中經提拉在表面形成薄膜,適用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷,木材,
金屬等所有固體材料表面涂覆藝。可在科研,教育,生產中應用。
"dip coater"行業(yè)稱:提拉機 提拉涂覆機
主要特點:
* 計算機控制運行,運行參數(shù)記憶,鍵復位,保障試驗過程可重復。
實時狀態(tài)(距離mm,時間h:min:sec)數(shù)據(jù)顯示,方便觀察實驗現(xiàn)象。到位自動停機,聲音報告。
* 度直線導軌控制運行軌跡,保障運行軌跡的確直線性。
* 2個作位:可安放2個燒杯,內盛不同粘度的膠體。
每個作位可夾持1個以上的“玻片"。作效率更。
* 彈簧夾持“玻片",結構更簡單,操作更方便。
術參數(shù):
單相交流電源:220V.50Hz
率:30W
快直線速度:300mm/min
慢直線速度:5.9X10-7 m/sec (1毫米/0.47小時)
有效提拉度:128mm
可設定 時間:1秒----9小時59分59秒
外廓尺寸: 320mm x 260mm x 330mm ,
2.真空冷鑲嵌機 型號:DP-CB
產品型號:DP-CB
產品簡介:用于多孔試樣鑲嵌,微型試樣鑲嵌:
尤其是線路板、帶有微細孔的各種材料的鑲嵌。
在業(yè)中,還可與染色劑配合,用于各種缺陷的檢查。
它的原理是把空氣從孔隙中吸出,再利用大氣壓的作用把鑲嵌料或染色劑壓
微細孔。
還適用于將試樣粘貼到載片上制作薄片試樣
主要特點:
*真空室較大,可同時浸漬或鑲嵌多個試樣。
*真空室透明,方便觀察鑲嵌成型過程。
*真空室有定厚度的有機玻璃制,不易破碎,遠比普通玻璃真空室要堅固,安。
* 操作簡便,外置柱狀裝置對導料管夾緊,操作簡單,阻斷可靠
配合使用次性耗材,
*設置料杯安放架,防止料杯傾覆,防止污染桌面,更人性化。
*內置真空泵,采用新術:保證不回油,不污染樣品.不產生油霧, 不污染室內環(huán)境.
(普通旋片式真空泵,可能回油,真空油反流到真空室,污染標本,操作失敗。
普通旋片式真空泵,作過程中,由于速旋轉及摩擦生熱兩種原因產生油霧,
污染室內環(huán)境。 影響身體健康。
鑲嵌室底由食品級有機材料制成,從而便于清潔,而且不會粘附廢浸漬液
術參數(shù):真空度:-0.09MPa
電源: 交流 220V .
產品規(guī)格:350mm寬 x300mm深 x280mm
3.半導體晶片甩干機 型號:DP-T150
能:
用于半導體晶片速旋轉干燥。
機理:
速旋轉使半導體晶片充分與空氣接觸,快速干燥。
參數(shù):
轉速可設置范圍:300-8000/分
時間可設置范圍:2*999秒
基片適用范圍:10mm-150mm.
結構:半導體晶片卡裝。
4.電腦控制旋轉涂層機/勻膠機勻膠臺 甩膠機、旋涂儀 型號;DP-C108
產品型號:DP-C108
產品簡介:主要用于液體,膠體的成膜性能試驗,表面涂覆藝。
"spin coater " 行業(yè)稱:勻膠機 勻膠臺 甩膠機、旋涂儀 旋轉涂膜機 旋涂機
主要特點:
*電腦控制,可預置并記憶轉速,控制轉盤均勻加速;
旋轉時間預置,到時,控制轉盤均勻減速。
*轉速:300– 8000轉/分. ( 100轉/步 ,調整 )
*電腦閉環(huán)控制電機,轉速確±0.5轉/分.方便實驗效果重現(xiàn).
*機械三爪式裝夾。裝夾可靠,可意裝夾¢50—100mm片。
*機械四爪式裝夾??煽垦b夾方形,矩形片,(可選購件)
*機械微型夾板裝夾,
可以裝夾微小的圓形,方形,矩形,六角形,等異形薄片。(可選購件)
* 排除了因真空吸附不牢,成飛片的可能。
*去除了真空泵,節(jié)約了您的金錢,減少了環(huán)境噪聲。
*作腔可拆卸,方便清洗.
*作腔透明, 方便觀察成膜過程。
*結構設計無皮帶,無碳刷, 沒有因常時間遠行而需要更換的易損件。
其明顯效果是:機械噪音低,滿足實驗室要求.運行平穩(wěn)。
在此我們遵循了機械設計中,等壽命設計理論。
保障了用戶可以放心使用。
*透明作腔密閉涂層實驗,無液體、膠狀體飛濺,作環(huán)境衛(wèi)生,安。
術參數(shù):
旋轉盤直徑:120mm??梢庋b夾¢50—100mm片
旋轉盤轉數(shù):8000r/min。
可調數(shù)顯轉數(shù):300 - 8000 轉。可設定時間:1 - 99分。
標準包裝:尺寸: 250mm寬 x 300mm深 x 215 mm , 重量: 9 kg
產品用途:將液體、膠狀體等材料在襯底上成膜
5.多位真空冷鑲嵌機 金相試驗鑲嵌機 型號:DP-290
DP-290多位真空冷鑲嵌機金相試驗鑲嵌機
提供浸漬性能,操作快速效。適合用于多孔材料,例如裂紋失效分析試樣,多孔鑄件及復合物,電子元件,礦石,陶瓷和噴涂等試樣。
DP-290多位真空冷鑲嵌機金相試驗鑲嵌機
浸漬
多孔試樣的浸漬要求試樣的孔及裂紋中沒有空氣,以方便后續(xù)材料微觀結構分析以及缺陷觀察。方法就是在真空下浸漬。
DP-290真空冷鑲嵌機確保試樣的浸漬。
DP-290真空冷鑲嵌機配備個大容積真空室和個容易操作的控制面板。浸漬材料通過次性管道輸送,快速效的分布至各個鑲樣模中,沒有潑濺污染。
DP-290真空冷鑲嵌機
足夠容納多個 / 或大型試樣的空間。
配備有個大容積真空室。D282X140mm
直徑280mm的鑲樣模對大型試樣行浸漬。
實用的鑲樣模架上可放置多達9個鑲樣模。
當使用50mm直徑模具時,可以同時安裝9個。
實用的鑲樣模架在真空室內可以緩慢旋轉。方便澆鑄浸漬。
DP-290多位真空冷鑲嵌機金相試驗鑲嵌機
易于操作
輕巧入口管實現(xiàn)鑲嵌樣模的*裝填。
易讀取的真空表;
輕觸鍵,方便客戶操作。
透過透明蓋清晰觀察浸漬過程
次性耗材確保操作人員的安性,并減少清潔作量。
容易操作的控制面板
DP-290真空冷鑲嵌機,通過觸摸來操作。壓力表顯示當前壓力
外形結構尺寸:500 x350x350mm
電源電壓 單項交流 220V/50Hz
限真空: -0.098MPa
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